東北半導体・エレクトロニクスデザインコンソーシアム

Tohoku Semiconductor Electronics Design Consortium

半導体表面で生ずる物理化学反応素過程

研究キーワード:
表面反応、光電子分光、その場観察

研究シーズの特徴・独自性

半導体集積回路の高集積化・高機能化、さらには新素材の開発を目指し、表面上で生ずる様々な物理化学反応を、電子分光法を用いて原子レベルで研究しています。主とした実験手法は光電子分光法で、低真空下でも測定可能な装置を所有し、気相と固体表面の化学反応をその場リアルタイムで観測することができます。また走査型オージェ電子顕微鏡装置を組み合わせ、シリコン酸化膜上に微細構造を形成するための、新しい作製方法も開発しています。

SiC表面の酸化反応時に光電子分光測定し、反応素過程を探求
低真空対応X線光電子分光装置を用いて、ガス導入中にその場測定

産学連携の可能性

固体表面の原子構造・電子状態に関する実験的な研究連携は可能です。また、ガス導入中の光電子分光測定、ならびに走査型オージェ電子分光測定により成果が期待できる、様々な表面材料分析に対応可能です。

弘前大学

大学院理工学研究科/理工学部数物科学科

教授

:

遠田 義晴

お問い合わせ先

:

enta@hirosaki-u.ac.jp

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